Titel |
Enabling control of matter at the atomic level: atomic layer deposition and fluorocarbon-based atomic layer etching / Stefano Dallorto ; Gutachter: Adam Schwartzberg, Steffen Strehle ; Betreuer: Ivo W. Rangelow |
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Beteiligt |
Stefano Dallorto (Verfasser) |
Erschienen |
Ilmenau: TU Ilmenau |
Umfang |
Online-Ressource |
Hochschulschrift |
Dissertation, Ilmenau, TU Ilmenau, 2019 |
Sprache |
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Land |
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Themengebiet |
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Thema |
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Persistent Identifier |
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Datensatz-ID |
120306683X |
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