Titel |
A Chemical Vapor Deposition Diamond Reactor for Controlled Thin‐Film Growth with Sharp Layer Interfaces |
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Beteiligt |
Philip Schätzle (Verfasser)
Philipp Reinke (Verfasser) David Herrling (Verfasser) Arne Götze (Verfasser)
Lukas Lindner (Verfasser)
Jan Jeske (Verfasser) Lutz Kirste (Verfasser) Peter Christian Knittel (Verfasser) |
Erschienen in |
Physica status solidi. A, Applications and materials science 220, 4, 2023 |
Erschienen |
21.02.2023 |
Sprache |
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Land |
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Persistent Identifier |
urn:nbn:de:101:1-2023022114320810849356 (URN) |
Datensatz-ID |
1281556351 |
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