Titel |
Controllable Si oxidation mediated by annealing temperature and atmosphere / Feitao Li, Dong Wang, Malte Klingenhof, Dominik Flock, Honglei Wang, Peter Strasser, Peter Schaaf |
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Beteiligt |
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Erschienen |
Ilmenau: TU Ilmenau |
Umfang |
Online-Ressource, 10 Seiten |
Sprache |
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Land |
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Themengebiet |
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DDC-Notation |
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Persistent Identifier |
urn:nbn:de:101:1-2023032703072067212580 (URN) |
Weitere Angaben |
In: Journal of materials science(57), H. 24, S.10943-10952 - ISSN 1573-4803 |
Datensatz-ID |
1284470431 |
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