Titel |
Manufacturing of nanostructures with high aspect ratios using soft UV-nanoimprint lithography with bi- and trilayer resist systems / Thomas Handte, Nicolas Scheller, Lars Dittrich, Manuel W. Thesen, Martin Messerschmidt, Stefan Sinzinger |
|---|---|
Beteiligt |
Thomas Handte (Verfasser)
Nicolas Scheller (Verfasser) Lars Dittrich (Verfasser) Manuel W. Thesen (Verfasser)
Martin Messerschmidt (Verfasser)
Stefan Sinzinger (Verfasser) |
Erschienen |
Ilmenau: TU Ilmenau |
Umfang |
Online-Ressource, 7 Seiten |
Sprache |
|
Land |
|
Themengebiet |
|
Thema |
Soft UV-NIL
Nanofabrication High etch selectivity Bilayer
Trilayer
Lift-off Hard mask |
DDC-Notation |
|
Persistent Identifier |
urn:nbn:de:101:1-2023050803064344803478 (URN) |
Weitere Angaben |
In: Micro and nano engineering(14) - ISSN 2590-0072 |
Datensatz-ID |
1288583273 |
Hinweis
Die Betaversion beinhaltet noch nicht alle Funktionen und Informationen des Katalogs des DNB-Portals. Falls Sie Informationen vermissen oder ein Medium bestellen wollen, besuchen Sie bitte die entsprechende Seite im Katalog des DNB-Portals über folgenden Link: