Titel |
Influence of co-reactants on surface passivation by nanoscale hafnium oxide layers grown by atomic layer deposition on silicon |
|---|---|
Beteiligt |
Sophie L. Pain (Verfasser)
Edris Khorani (Verfasser) Anup Yadav (Verfasser) Tim Niewelt (Verfasser)
Antonio Leimenstoll (Verfasser)
Brendan F. M. Healy (Verfasser) Marc Walker (Verfasser) David Johannes Walker (Verfasser) Nicholas Ewen Grant (Verfasser) John D. Murphy (Verfasser) Albert-Ludwigs-Universität Freiburg. Institut für Nachhaltige Technische Systeme (Mitwirkender) Albert-Ludwigs-Universität Freiburg. Professur für Photovoltaische Energiekonversion (Mitwirkender) Fraunhofer-Institut für Solare Energiesysteme (Mitwirkender) |
Erschienen |
Freiburg: Universität |
Umfang |
Online-Ressource |
Sprache |
|
Land |
|
Themengebiet |
|
DDC-Notation |
|
Persistent Identifier |
urn:nbn:de:bsz:25-freidok-2459915 (URN) |
Weitere Angaben |
RSC applied interfaces. - 1, 3 (2024) , 471-482, ISSN: 2755-3701 |
Datensatz-ID |
1330047338 |
Hinweis
Die Betaversion beinhaltet noch nicht alle Funktionen und Informationen des Katalogs des DNB-Portals. Falls Sie Informationen vermissen oder ein Medium bestellen wollen, besuchen Sie bitte die entsprechende Seite im Katalog des DNB-Portals über folgenden Link: