Titel |
Impact of Non‐Stoichiometric Phases and Grain Boundaries on the Nanoscale Forming and Switching of HfOₓ Thin Films / Niclas Schmidt, Nico Kaiser, Tobias Vogel, Eszter Piros, Silvia Karthäuser, Rainer Waser, Lambert Alff, Regina Dittmann |
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Beteiligt |
Niclas Schmidt (Verfasser)
Nico Kaiser (Verfasser) Tobias Vogel (Verfasser) Eszter Piros (Verfasser)
Silvia Karthäuser (Verfasser)
Rainer Waser (Verfasser) Lambert Alff (Verfasser) Regina Dittmann (Verfasser) |
Erschienen |
Darmstadt: Universitäts- und Landesbibliothek |
Umfang |
Online-Ressource |
Sprache |
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Land |
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Themengebiet |
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Thema |
c‐AFM
defect engineering grain boundaries hafnium oxide
MBE
resistive switching |
DDC-Notation |
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Persistent Identifier |
urn:nbn:de:tuda-tuprints-271198 (URN) |
Weitere Angaben |
In: Advanced Electronic Materials, 10, (4), Wiley-VCH |
Datensatz-ID |
1332820905 |
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