Titel |
Tecnología epitaxial de silicio / Alfred Zehe ; Andreas Thomas |
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Beteiligt |
Alfred Zehe (Verfasser) |
Erschienen |
Dresden: Intercon Verl.-Gruppe |
Umfang |
X, 292 S. : graph. Darst. |
ISBN |
978-3-8311-1438-2 |
Sprache |
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Themengebiet |
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Thema |
Dreidimensionale Integration, Molekularstrahlepitaxie, Silicium |
Weitere Angaben |
Literaturverz. S. 261 - 287. - Hergestellt on demand |
Datensatz-ID |
961510846 |
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