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Akhauri Prakash Kumar

Agent based diagnostic system for the defect analysis during chemical mechanical polishing (CMP)

Heimsheim: Jost-Jetter, 2005

Titel

Agent based diagnostic system for the defect analysis during chemical mechanical polishing (CMP) / Akhauri Prakash Kumar. Universität Stuttgart, IFF, Institut für Industrielle Fertigung und Fabrikbetrieb ; IPA, Fraunhofer-Institut Produktionstechnik und Automatisierung

Beteiligt

Akhauri Prakash Kumar (Verfasser)

Erschienen

Heimsheim: Jost-Jetter
2005

Umfang

145 S. : Ill., graph. Darst.

Hochschulschrift

Zugl.: Stuttgart, Univ., Diss., 2005

ISBN

978-3-936947-64-9

Sprache

Englisch

Land

Deutschland

Themen­gebiet

Ingenieurwissenschaften und Maschinenbau

Thema

Wafer, Chemisches Polieren, Prozessüberwachung, Defekt, Diagnosesystem, Mehragentensystem

Reihe

IPA-IAO-Forschung und Praxis : Berichte aus dem Fraunhofer-Institut für Produktionstechnik und Automatisierung (IPA), Stuttgart, Fraunhofer-Institut für Arbeitswirtschaft und Organisation (IAO), Stuttgart, Institut für Industrielle Fertigung und Fabrikbetrieb (IFF), Universität Stuttgart und Institut für Arbeitswissenschaft und Technologiemanagement (IAT), Universität Stuttgart ; Nr. 421

Andere Ausgaben

Erscheint auch als Online-Ausgabe: Agent based diagnostic system for the defect analysis during chemical mechanical polishing (CMP)

Datensatz-ID

976556154
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