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Akhauri Prakash Kumar und Universität Stuttgart. Institut für Industrielle Fertigung und Fabrikbetrieb

Agent based diagnostic system for the defect analysis during chemical mechanical polishing (CMP)

Heimsheim: Jost-Jetter, 2005

Titel

Agent based diagnostic system for the defect analysis during chemical mechanical polishing (CMP) / Universität Stuttgart, IFF, Institut für Industrielle Fertigung und Fabrikbetrieb ... Akhauri Prakash Kumar

Beteiligt

Akhauri Prakash Kumar (Verfasser)
Universität Stuttgart. Institut für Industrielle Fertigung und Fabrikbetrieb (Herausgebendes Organ)

Erschienen

Heimsheim: Jost-Jetter
2005

Umfang

Online-Ressource

Hochschulschrift

Zugl.: Stuttgart, Univ., Diss., 2005

ISBN

978-3-936947-64-9

Sprache

Englisch

Themen­gebiet

Ingenieurwissenschaften und Maschinenbau

Thema

Wafer, Chemisches Polieren, Prozessüberwachung, Defekt, Diagnosesystem, Mehragentensystem

Reihe

IPA-IAO-Forschung und Praxis : Berichte aus dem Fraunhofer-Institut für Produktionstechnik und Automatisierung (IPA), Stuttgart, Fraunhofer-Institut für Arbeitswirtschaft und Organisation (IAO), Stuttgart, Institut für Industrielle Fertigung und Fabrikbetrieb (IFF), Universität Stuttgart und Institut für Arbeitswissenschaft und Technologiemanagement (IAT), Universität Stuttgart ; Nr. 421

Andere Ausgaben

Erscheint auch als Druck-Ausgabe: Agent based diagnostic system for the defect analysis during chemical mechanical polishing (CMP)

Persistent Identifier

urn:nbn:de:bsz:93-opus-23777 (URN)

Datensatz-ID

976561247
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