Title |
ITM-prozessierte CoSi2-Kontakte für grossintegrierte CMOS-Schaltungen / Ludwig Niewöhner |
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Involved |
Ludwig Niewöhner (Verfasser) |
Published |
Düsseldorf: VDI-Verl. |
Edition |
Als Ms. gedr. |
Extent |
111 S. : Ill., graph. Darst. |
Thesis |
Zugl.: Hannover, Univ., Diss., 1991 |
ISBN |
978-3-18-142209-0 |
Language |
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Topic |
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Subject |
CMOS, Silicide, Ionenimplantation, Source (Elektronik), Drain (Elektronik), Selbstjustierende Technik |
Series |
Fortschrittberichte VDI. Reihe 9, Elektronik, Mikro- und Nanotechnik ; Nr. 122 |
Record ID |
911405682 |
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