Title |
Der Zusammenhang zwischen dem Hochrate-Depositionsprozess und den strukturellen sowie photoelektrischen Eigenschaften von a-Si:H-Schichten für die Anwendung in Dünnschichtsolarzellen / von Basem Alhallani |
|---|---|
Involved |
Basem Alhallani (Verfasser) |
Published |
1996 |
Extent |
128 S. : graph. Darst. |
Thesis |
Dresden, Techn. Univ., Diss., 1996 |
Topic |
|
Subject |
Silicium, Amorpher Halbleiter, Wasserstoff, Dünne Schicht, PECVD-Verfahren, Photoleitung |
Record ID |
950315478 |
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