Title |
Entwicklung einer Planarisierungstechnologie einschließlich chemisch mechanischen Polierens zur Fertigung hochauflösender Flächenlichtmodulatoren / von Andreas Rieck |
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Involved |
Andreas Rieck (Verfasser) |
Published |
2000 |
Extent |
138 S. : Ill., graph. Darst. |
Thesis |
Duisburg, Univ., Diss., 2000 (Nicht für den Austausch) |
Language |
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Topic |
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Subject |
Matrixanzeige, Lichtmodulator, Wafer, CMOS, Planartechnik, Chemisches Polieren |
Other editions |
Erscheint auch als Online-Ausgabe: Entwicklung einer Planarisierungstechnologie einschließlich chemisch mechanischen Polierens zur Fertigung hochauflösender Flächenlichtmodulatoren |
Record ID |
959989552 |
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