Title |
Aufbau und Charakterisierung einer Undulatorbeamline bei BESSY II für EUV-Photoemissionsmikroskopie an organischen Nanoschichten und Nanoinseln auf Silizium / vorgelegt von Martin Pohl |
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Involved |
Martin Pohl (Verfasser) |
Published |
2002 |
Extent |
119 S. : Ill., graph. Darst. |
Thesis |
Bielefeld, Univ., Diss., 2002 |
Topic |
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Subject |
BESSY II, Photoemissionselektronenmikroskopie, Weiche Röntgenstrahlung |
Other editions |
Erscheint auch als Online-Ausgabe: Aufbau und Charakterisierung einer Undulatorbeamline bei BESSY II für EUV-Photoemissionsmikroskopie an organischen Nanoschichten und Nanoinseln auf Silizium |
Record ID |
967102189 |
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