Title |
Modellierung eines Plasmaätzverfahrens am Beispiel der Ätzung einer Siliziumoberfläche durch ein Chlor-Argon-Plasma / vorgelegt von Michael Nold |
|---|---|
Involved |
Michael Nold (Verfasser) |
Published |
2003 |
Extent |
III, 120 S. : Ill., graph. Darst. |
Thesis |
Stuttgart, Univ., Diss., 2003 (Nicht für den Austausch) |
Topic |
|
Subject |
Silicium, Halbleiteroberfläche, Plasmaätzen, Chlor, Argon, Prozesssimulation |
Other editions |
Erscheint auch als Online-Ausgabe: Modellierung eines Plasmaätzverfahrens am Beispiel der Ätzung einer Siliziumoberfläche durch ein Chlor-Argon-Plasma |
Record ID |
970152663 |
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