Title |
Untersuchung von Aufladungseffekten bei der Ionenimplantation / Tobias Dirnecker |
|---|---|
Involved |
Tobias Dirnecker (Verfasser) |
Published |
Aachen: Shaker |
Extent |
V, II, 118 S. : Ill., graph. Darst. |
Thesis |
Zugl.: Erlangen, Nürnberg, Univ., Diss., 2006 |
ISBN |
978-3-8322-5081-2 |
Country |
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Topic |
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Subject |
Wafer, MOS, Gate-Oxid, Ionenimplantation, Elektrische Aufladung |
Series |
Erlanger Berichte Mikroelektronik ; Bd. 2006,2 |
Other editions |
Erscheint auch als Online-Ausgabe: Untersuchung von Aufladungseffekten bei der Ionenimplantation |
Record ID |
979929601 |
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